最終更新日:08/05/25

製品紹介 

バンプ検査装置
SP−500B

Bump Inspection System

 

SP-500BW バンプ検査装置“SP−500B”は、ウエーハやICチップ上のバンプ形状を3次元測定し、 高さ、サイズ、位置ずれ、コプラナリティなどを検査します。

3次元形状測定の原理として、新たに開発した狭帯域白色光干渉法を採用し、高速・高精度のバンプ形状検査を実現しました。

アライメント、フォーカスなど、すべて自動的に行われ、また、予め設定した管理値と比較して、合格/不合格を自動判定します。

1988年に業界初のバンプ自動検査装置を開発・納入して以来、“MV−550A”、“MV−550B”を開発して参りましたが、“SP−500B”は、これらバンプ検査装置シリーズの最新鋭機種です。

2003年12月、ウエーハ・バンプ検査装置 “SP−500BW”を発売しました。

 

特徴

  • 垂直走査型白色光干渉法による非接触高精度3次元測定 [高さ測定分解能1nm]
  • 新しい信号処理アルゴリズム搭載による高速走査[最大走査速度:100μm/sec]
  • 2次元カメラによる画面内一括高速測定 [測定時間:数秒/画面]
  • 対物レンズ交換により視野サイズ可変 [最大視野:数mm×数mm]
  • 広い測定レンジ [高さ測定レンジ:最大350um(オプション)]
  • 200mmウエーハ対応
  • Windows NTと日本語/英語画面表示
  • 専用DSPボードによる高速化(オプション)
  • ウエーハ自動搬送(オプション)

主な仕様

測定原理 狭帯域白色光干渉法
信号処理アルゴリズム SB(波形復元)アルゴリズム(特許出願中)
対象 ウエーハ(最大200mm)、またはトレー上のICチップ 
ロード・アンロード 手動、またはロボットによる自動搬送
測定項目 バンプを含む領域を3次元計測し、つぎのような項目を検査します。
 @バンプ高さ、コプラナリティ
 A頭頂形状(段差、傾き、粗さ) 
 Bバンプサイズ(X径、Y径、面積、体積など)
 Cその他(位置ずれ、工程能力Cpk値など)
高さ測定再現性 σ(平均)=0.02um
高さ測定範囲 0〜100um [オプション:最大350um]
高さ測定分解能  1nm
Z軸走査速度  可変;最高 100 um/sec
フォーカス オートフォーカス機能内蔵
画素分解能 可変;最大 512×480画素 [オプション:約1400×1000画素]
測定視野 対物レンズ、中間レンズの組み合わせで可変です。
専用DSPボード オプション
検査時間 バンプ高さ、サイズ、配置密度、所要精度などに依存します。
お問い合わせ下さい。  
PC/OS Windows NT;日本語版
クリーンルーム対応 クラス100以下
用役   電源、圧空、真空

本仕様は改良のため、予告なく変更することがあります。

 

測定例 

Bump

測定結果(2D表示)

測定結果(3D表示)

Chip-Map Wafer-Map

チップマップと計測結果(部分)

バンプ高さのウエーハマップ

 

本製品の技術と関連製品紹介ページ

光干渉法による微細表面形状測定技術 (Technology of Interferometric Surface Profiler)
3Dミュージアム(表面形状測定例) (3D Museum by Surface Profiler)
表面形状測定装置 SP-500 (Surface Profiler)
基板検査装置SP-500P (Panel Inspection System)
表面形状測定モジュール SP-500M
FPD用表面形状測定装置 SP-500L

問い合わせ(営業窓口):
  〒520-2141 滋賀県大津市大江1丁目1番45号
  東レエンジニアリング(株) エレクトロニクス事業本部 ディスプレイシステム営業部 MED課
   Tel:(077)544-1635  Fax:(077)544-6091


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